半導(dǎo)體、電子行業(yè)是目前世界上要求高標(biāo)準(zhǔn)的超純水用戶。超出水制造技術(shù)的發(fā)展極大地推動了半導(dǎo)體和電子工業(yè)的技術(shù)進(jìn)度。同時半導(dǎo)體、電子工業(yè)的迅速發(fā)展促進(jìn)了超純水制造技術(shù)裝備的發(fā)展。

目前先進(jìn)的制水工藝：

（RO）反滲透 + （EDI）電去離子工藝

（RO）反滲透 + 混床工藝

產(chǎn)水符合電子工業(yè)用水 (水質(zhì)符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，12MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)。

電子超純水設(shè)備

電子超純水設(shè)備應(yīng)用范圍

半導(dǎo)體工業(yè)用超純水、彩色顯像管用高純水、集成電路、精細(xì)化工、實驗室。

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程

電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：

(1)采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

(2)采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

(3)采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

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