在超純水設(shè)備中，雖然EDI模塊的進(jìn)水條件在很大程度上減少了模塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會(huì)，但是隨著EDI超純水設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，EDI模塊內(nèi)部水道還是會(huì)有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。所以，對(duì)濃水室結(jié)垢進(jìn)行清洗時(shí)非常重要的事情。具體的步驟可以安排如下：

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)；

2、分離EDI設(shè)備與其他純水設(shè)備的連接管路；

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過(guò)濃水管路進(jìn)入EDI模塊再回到清洗水箱，濃水進(jìn)、出閥開(kāi)啟，關(guān)閉EDI淡水進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥；

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液；

超純水設(shè)備

5、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)節(jié)濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗；

6、停止清洗泵，排除清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝；

7、向清洗水箱連續(xù)注入清洗（反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水），啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗；

8、打開(kāi)EDI進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥，同時(shí)對(duì)兩個(gè)水室進(jìn)行沖洗；

9、檢測(cè)濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近；

10、各個(gè)閥門(mén)，恢復(fù)原始各設(shè)備流量數(shù)據(jù)；

11、恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接；

12、開(kāi)啟PLC控制電源柜，向EDI模塊送電，轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。

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